Innolume, Veeco MBE 시스템 도입으로 양자점 레이저 생산 능력 확장

발주 배경: 양자점 레이저의 물리적 장점

양자점(QD) 레이저는 기존 양자우물(quantum well) 레이저 대비 스펙트럼 선폭이 좁고, 발진 임계 전류가 낮으며, 열적 안정성이 높다는 특성을 갖는다. 이러한 물리적 우위는 고출력 AI 가속기 및 스위치 ASIC 인접부에서 작동해야 하는 초집적 광학(Co-Packaged Optics, CPO) 구조에 특히 적합하다. AI 연산 밀도가 높아질수록 방열 환경이 가혹해지기 때문에, 온도 내성이 강한 광원 소자의 수요는 구조적으로 증가하는 추세다.

이번 발주의 두 가지 핵심 공정

Innolume의 이번 장비 도입은 크게 두 공정을 다루고 있다. 첫째, Veeco GEN2000 MBE 시스템을 통해 고밀도 GaAs 양자점 층의 에피택셜 성장 공정을 확장한다. 이는 웨이퍼 처리량 향상과 배치 간 균일성 확보를 목표로 한다. 둘째, Veeco의 SPECTOR 이온빔 증착(IBD) 시스템을 추가해 레이저 단면(facet)에 적용하는 반사방지(AR) 및 고반사(HR) 코팅을 사내에서 직접 처리하는 역량을 확보한다. 에피 성장과 후공정 코팅을 내재화함으로써 공정 수율과 납기 통제력을 동시에 높이겠다는 전략이다.

다중 공급사 전략과 Q4 2026 가동 일정

Innolume은 Veeco 장비 외에도 Riber사의 MBE6000 생산 반응로 2기를 도르트문트 클린룸에 추가 설치할 준비 중이며, 가동 시점은 2026년 4분기로 계획되어 있다. Veeco와 Riber를 동시에 운용하는 복수 공급사 체계를 통해 6인치 GaAs 생산 규모를 키우는 동시에 장비 조달 리스크를 분산하는 구조다. 수직 통합 제조 방식을 채택하고 있는 Innolume으로서는, 핵심 공정 장비의 다변화가 장기 공급 안정성 측면에서도 중요한 선택이다.

시장 전망과 한계

시장조사 기관 LightCounting에 따르면, AI 인프라용 광 트랜시버 매출은 2031년까지 약 800억 달러에 근접할 것으로 전망된다. Innolume의 생산 확대는 이 성장 곡선에 올라타기 위한 사전 투자 성격이 짙다. 다만 현시점에서 실제 생산 가동 시기와 양산 수율, 주요 고객사와의 계약 현황 등은 공개되지 않았으며, CPO 시장 자체가 아직 표준화 초기 단계에 있다는 점은 수요 불확실성으로 남아 있다.