Innolume, Veeco MBE 시스템 도입으로 양자점 레이저 생산 능력 확장
독일 포토닉스 기업 Innolume이 Veeco Instruments의 GEN2000 분자빔에피택시(MBE) 시스템을 발주하며 도르트문트 캠퍼스의 갈륨비소(GaAs) 기반 양자점 레이저 생산 인프라를 본격적으로 확충하고 있다. 이번 설비 확대는 AI 가속기와 결합하는 초집적 광학(CPO) 수요 증가에 대응하기 위한 조치다.
#분자빔에피택시
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독일 포토닉스 기업 Innolume이 Veeco Instruments의 GEN2000 분자빔에피택시(MBE) 시스템을 발주하며 도르트문트 캠퍼스의 갈륨비소(GaAs) 기반 양자점 레이저 생산 인프라를 본격적으로 확충하고 있다. 이번 설비 확대는 AI 가속기와 결합하는 초집적 광학(CPO) 수요 증가에 대응하기 위한 조치다.